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利用者の方へ

本施設を初めて利用される方は事前に電子メールにて
riyou@nanospin.riec.tohoku.ac.jp までご連絡下さい。

主な装置

01 直接描画用電子ビーム露光装置
02 マスク描画用電子ビーム露光装置
03 イオンビーム加工解析装置
04 縮小投影露光装置
05 X線光電子分光装置
詳細はこちらを参照下さい。
電気通信研究所全体の共同利用装置についてはこちらを参照下さい。